半導體小尺寸掩膜應用化工場景自動純水裝置

半導體小尺寸掩膜應用化工場景自動純水裝置

ASK 型定位

• 系列全稱：Automatic Small reagent-grade water Kit ASK
• 產(chǎn)水等級：JIS K 0557 A5（≈ ASTM Type 1+，> 18.2 MΩ·cm，TOC ≤ 5 ppb，粒子 0.05 µm ≤ 100 個/mL）
• 結(jié)構(gòu)：一次 RO → 混床精制柱 → 0.05 µm 終端囊式 → 循環(huán)回路，無再生化學排放，柱體一次性更換。
• 控制：PLC 一鍵自動運行，缺水、低壓、超純水質(zhì) (18.2 MΩ·cm 下 17.0 MΩ·cm 設(shè)定) 自動切換至備用旁路，帶 4–20 mA 外部輸出，可遠程給曝光機主機“OK/NG"信號

ASK 位

• 系列全稱：Automatic Small reagent-grade water Kit ASK
• 產(chǎn)水等級：JIS K 0557 A5（≈ ASTM Type 1+，> 18.2 MΩ·cm，TOC ≤ 5 ppb，粒子 0.05 µm ≤ 100 個/mL）
• 結(jié)構(gòu)：一次 RO → 混床精制柱 → 0.05 µm 終端囊式 → 循環(huán)回路，無再生化學排放，柱體一次性更換。
• 控制：PLC 一鍵自動運行，缺水、低壓、超純水質(zhì) (18.2 MΩ·cm 下 17.0 MΩ·cm 設(shè)定) 自動切換至備用旁路，帶 4–20 mA 外部輸出，可遠程給曝光機主機“OK/NG"信號

ASK定位

• 系列全稱：Automatic Small reagent-grade water Kit ASK
• 產(chǎn)水等級：JIS K 0557 A5（≈ ASTM Type 1+，> 18.2 MΩ·cm，TOC ≤ 5 ppb，粒子 0.05 µm ≤ 100 個/mL）
• 結(jié)構(gòu)：一次 RO → 混床精制柱 → 0.05 µm 終端囊式 → 循環(huán)回路，無再生化學排放，柱體一次性更換。
• 控制：PLC 一鍵自動運行，缺水、低壓、超純水質(zhì) (18.2 MΩ·cm 下 17.0 MΩ·cm 設(shè)定) 自動切換至備用旁路，帶 4–20 mA 外部輸出，可遠程給曝光機主機“OK/NG"信號

ASK 定位

• 系列全稱：Automatic Small reagent-grade water Kit ASK
• 產(chǎn)水等級：JIS K 0557 A5（≈ ASTM Type 1+，> 18.2 MΩ·cm，TOC ≤ 5 ppb，粒子 0.05 µm ≤ 100 個/mL）
• 結(jié)構(gòu)：一次 RO → 混床精制柱 → 0.05 µm 終端囊式 → 循環(huán)回路，無再生化學排放，柱體一次性更換。
• 控制：PLC 一鍵自動運行，缺水、低壓、超純水質(zhì) (18.2 MΩ·cm 下 17.0 MΩ·cm 設(shè)定) 自動切換至備用旁路，帶 4–20 mA 外部輸出，可遠程給曝光機主機“OK/NG"信號

ASK 型定位

• 系列全稱：Automatic Small reagent-grade water Kit ASK
• 產(chǎn)水等級：JIS K 0557 A5（≈ ASTM Type 1+，> 18.2 MΩ·cm，TOC ≤ 5 ppb，粒子 0.05 µm ≤ 100 個/mL）
• 結(jié)構(gòu)：一次 RO → 混床精制柱 → 0.05 µm 終端囊式 → 循環(huán)回路，無再生化學排放，柱體一次性更換。
• 控制：PLC 一鍵自動運行，缺水、低壓、超純水質(zhì) (18.2 MΩ·cm 下 17.0 MΩ·cm 設(shè)定) 自動切換至備用旁路，帶 4–20 mA 外部輸出，可遠程給曝光機主機“OK/NG"信號