實驗室用緊湊型真空鍍膜機射設備

實驗室用緊湊型真空鍍膜機射設備

特點

1. 超緊湊機身設計：作為直流濺射類設備中的小型機，機身尺寸僅為160mm×450mm×290mm，真空系統(tǒng)內(nèi)置，便于放置在實驗臺上，節(jié)省空間。
2. 簡易操作：附帶小型真空計，能夠管理成膜條件，確保成膜條件的可再現(xiàn)性。
3. 專用試料臺與靶材臺：配備專用的試料臺與靶材臺，可以簡單地調(diào)節(jié)靶材與基板之間的間距，方便操作。
4. 多功能性：可用于電極鍍膜，也可用于掃描電鏡成像中非導電樣品的鍍膜。
5. 高精度濺射：采用DC磁控濺射方式，濺射時間可從0至15分鐘調(diào)節(jié)，最長可達30分鐘（在連續(xù)模式下），濺射真空范圍為5~30Pa。

技術(shù)參數(shù)

應用

• 電極鍍膜：適用于制作薄電極膜，特別適合于需要高精度的電極膜制備。
• 掃描電鏡成像：可用于非導電樣品的鍍膜，提高樣品的導電性，便于進行掃描電鏡觀察。

特點

1. 超緊湊機身設計：作為直流濺射類設備中的小型機，機身尺寸僅為160mm×450mm×290mm，真空系統(tǒng)內(nèi)置，便于放置在實驗臺上，節(jié)省空間。
2. 簡易操作：附帶小型真空計，能夠管理成膜條件，確保成膜條件的可再現(xiàn)性。
3. 專用試料臺與靶材臺：配備專用的試料臺與靶材臺，可以簡單地調(diào)節(jié)靶材與基板之間的間距，方便操作。
4. 多功能性：可用于電極鍍膜，也可用于掃描電鏡成像中非導電樣品的鍍膜。
5. 高精度濺射：采用DC磁控濺射方式，濺射時間可從0至15分鐘調(diào)節(jié)，最長可達30分鐘（在連續(xù)模式下），濺射真空范圍為5~30Pa

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技術(shù)參數(shù)

應用

• 電極鍍膜：適用于制作薄電極膜，特別適合于需要高精度的電極膜制備

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• 掃描電鏡成像：可用于非導電樣品的鍍膜，提高樣品的導電性，便于進行掃描電鏡觀察

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