產(chǎn)品資料
超小型的濺射裝置涂布機用于制備導電薄膜
產(chǎn)品名稱: 超小型的濺射裝置涂布機用于制備導電薄膜
產(chǎn)品型號: SC-701MC
產(chǎn)品特點: 超小型的濺射裝置涂布機用于制備導電薄膜特點小型化設(shè)計：作為直流濺射類設(shè)備中的小型機，SC-701MC具有超緊湊的機身尺寸，便于實驗室和小規(guī)模生產(chǎn)中使用。
超小型的濺射裝置涂布機用于制備導電薄膜 的詳細介紹
超小型的濺射裝置涂布機用于制備導電薄膜
超小型的濺射裝置涂布機用于制備導電薄膜
特點
- 小型化設(shè)計：作為直流濺射類設(shè)備中的小型機，SC-701MC具有超緊湊的機身尺寸，便于實驗室和小規(guī)模生產(chǎn)中使用。
- 全自動操作：從排氣到涂層，再到進入大氣，整個過程都是全自動的，減少了人工操作的復雜性和誤差。
- 磁控管陰極：采用磁控管陰極，有助于減輕離子損傷，從而生產(chǎn)出高質(zhì)量的濺射薄膜。
- 膜厚控制：配備預設(shè)方式和數(shù)字顯示膜厚監(jiān)視器，可以精確控制膜厚。
- 易于操作：專用的試料臺和靶材臺，可以方便地調(diào)整靶材與基板之間的距離。
- 適用范圍廣：適用于各種電子元器件的電極膜制備、反射薄膜制備等。
技術(shù)參數(shù)
| 參數(shù) | 詳情 |
|---|---|
| 陰極 | φ2英寸DC磁控管/2極對向電極 |
| 靶材 | Au靶材附屬 |
| 膜厚設(shè)定方式 | 預設(shè)方式/帶膜厚監(jiān)視器的數(shù)字顯示 |
| 氣體導入機制 | 針閥 |
| 真空泵 | 直聯(lián)式回轉(zhuǎn)真空泵：20l/min（帶自動逆流防止閥） |
| 排氣操作 | 自動 |
| 真空腔尺寸 | 內(nèi)徑φ120mm×D120mm（SUS制） |
| 樣品交換方法 | 前門開閉式 |
| 尺寸（寬/深/高） | 主體：225/420/320mm；RP：300/160/200mm |
| 重量 | 主體：15kg；RP：9kg |
應用
- 各種電子元器件的電極膜制備。
- 用于制造反射薄膜等的應用。
SC-701MC以其小型化、自動化和高質(zhì)量的薄膜制備能力，成為實驗室和小規(guī)模生產(chǎn)中理想的濺射設(shè)備。
特點
- 小型化設(shè)計：作為直流濺射類設(shè)備中的小型機，SC-701MC具有超緊湊的機身尺寸，便于實驗室和小規(guī)模生產(chǎn)中使用。
- 全自動操作：從排氣到涂層，再到進入大氣，整個過程都是全自動的，減少了人工操作的復雜性和誤差。
- 磁控管陰極：采用磁控管陰極，有助于減輕離子損傷，從而生產(chǎn)出高質(zhì)量的濺射薄膜。
- 膜厚控制：配備預設(shè)方式和數(shù)字顯示膜厚監(jiān)視器，可以精確控制膜厚。
- 易于操作：專用的試料臺和靶材臺，可以方便地調(diào)整靶材與基板之間的距離。
- 適用范圍廣：適用于各種電子元器件的電極膜制備、反射薄膜制備等。
技術(shù)參數(shù)
| 參數(shù) | 詳情 |
|---|---|
| 陰極 | φ2英寸DC磁控管/2極對向電極 |
| 靶材 | Au靶材附屬 |
| 膜厚設(shè)定方式 | 預設(shè)方式/帶膜厚監(jiān)視器的數(shù)字顯示 |
| 氣體導入機制 | 針閥 |
| 真空泵 | 直聯(lián)式回轉(zhuǎn)真空泵：20l/min（帶自動逆流防止閥） |
| 排氣操作 | 自動 |
| 真空腔尺寸 | 內(nèi)徑φ120mm×D120mm（SUS制） |
| 樣品交換方法 | 前門開閉式 |
| 尺寸（寬/深/高） | 主體：225/420/320mm；RP：300/160/200mm |
| 重量 | 主體：15kg；RP：9kg |
應用
- 各種電子元器件的電極膜制備。
- 用于制造反射薄膜等的應用。
SC-701MC以其小型化、自動化和高質(zhì)量的薄膜制備能力，成為實驗室和小規(guī)模生產(chǎn)中理想的濺射設(shè)備。
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